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ITO膜性能及制成技术

ITO膜性能及制成技术

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【概要描述】从上面的分析可以看出,由于材料本身的特定物理化学特性,ITO膜具有良好的导电性和可见光区域。

高光透射率。

ITO膜性能及制成技术

【概要描述】从上面的分析可以看出,由于材料本身的特定物理化学特性,ITO膜具有良好的导电性和可见光区域。

高光透射率。

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一、前言

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实际上,进行透明导电薄膜材料研究是在19世纪末,光电材料获得了薄金属层

刚刚。经过很长时间的第二次世界大战期间,对透明导电物质的研究进入了新的时期,开始了。

宽波段禁止N型简单半导体SnO2材料,主要应用于飞机的制冰窗玻璃。1950年,第二个透明的一半

导体氧化物In2O3首次制造,特别是在In2O3中掺入锡后,在透明导电薄膜方面,这种材料变得普遍。

应用及广泛的应用前景。

锡掺杂的氧化铟(即ITO)材料是N型半导体材料,因为高电导率和高电导率

由于可见光透过率、高机械硬度和化学稳定性,液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、电力。

电致发光显示器(EL/OLED)、触摸屏(Touch  Panel)、太阳能电池和其他电子设备的透明电极最常用

材料。

二、ITO膜的基本特性

1、ITO膜基本特性

如图1所示,ITO  (In2O: SnO2=933601)的微观结构,In2O3中混合Sn,SN元素可以代替In2O3网格中的In。

元素以SnO2的形式存在。In2O3的In元素是3价格,所以形成SnO2时,电子对导带有贡献,同时

在一定的缺氧状态下产生氧气空穴,形成102

0 ~ 1021cm-3的载波浓度和10 ~ 30cm2

/vs的迁移率。这台机器

10-4。提供厘米规模的低薄膜电阻率,使ITO薄膜具有半导体的导电性。

ITO是一种宽波段薄膜材料,波段间距为3.5-4.3ev。在紫外线区域生成禁区的激励吸收阈值相当于3.75ev。

在330nm的波长下,紫外线区ITO膜的光穿透率很低。同时,近红外区域由于载体等离子体振动现象

由于发生反射,近红外区域ITO膜的光透射率也较低,但可见光区域ITO薄膜的透射率在图2中非常好。

可以知道。

从上面的分析可以看出,由于材料本身的特定物理化学特性,ITO膜具有良好的导电性和可见光区域。

高光透射率。

上文是对“ITO膜性能及制成技术”的整体概述,大家自行参考一下吧。

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